La litografía EUV, impulsora de la era digital

La litografía EUV está ganando la carrera por el método de fabricación de los futuros microchips. Durante muchos años, la industria de los semiconductores ha estado buscando un proceso rentable y de producción en masa que pueda utilizarse para exponer estructuras aún más pequeñas en obleas de silicio. En colaboración, ASML, Zeiss y TRUMPF han desarrollado una tecnología para generar luz ultravioleta extrema (EUV) con una longitud de onda de 13,5 nanómetros para uso industrial: En una cámara de vacío, un generador de gotas dispara 50.000 minúsculas gotas de estaño por segundo. Cada una de estas gotitas es golpeada por uno de los 50.000 pulsos láser y se convierte en plasma. Así se crea la luz EUV, que se dirige a las obleas que se van a exponer mediante un espejo. El pulso láser para la emisión de plasma es suministrado por un sistema láser de CO2 con capacidad de pulso desarrollado por TRUMPF: el Amplificador Láser TRUMPF. Translated with DeepL